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主營AB/ABB/GE/施耐德/本特利/ TRICONEX 巴赫曼/西屋/黑馬 福克斯波羅 霍尼韋爾 等PLC 模塊卡件

可以根據(jù)用戶需求，提供選型配置、電氣控制柜設(shè)計.工程設(shè)計、系統(tǒng)成套、軟件編程、現(xiàn)場調(diào)試

這樣可以提供客戶信任度

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 用戶程序通過編程器順序輸入到用戶存儲器，CPU對用戶程序循環(huán)掃描并順序執(zhí)行，這是PLC的基本工作過程。

  當(dāng)PLC運行時，用戶程序中有眾多的操作需要去執(zhí)行，但是CPU是不能同時去執(zhí)行多個操作的，它只能按分時操作原理，每一時刻執(zhí)行一個操作。但由于CPU運算處理速度很高，使得外部出現(xiàn)的結(jié)果從宏觀來看似乎是同時完成的。這種分時操作的過程，稱為CPU對程序的掃描（CPU處理執(zhí)行每條指令的平均時間：小型PLC如OMRON-P系列為10μs、中型PLC如FANUC-PLC-B為7μs）。

  PLC接通電源并開始運行后，立即開始進行自診斷，自診斷時間的長短隨用戶程序的長短而變化。自診斷通過后，CPU就對用戶程序進行掃描。掃描從0000H地址所存的條用戶程序開始，順序進行，直到用戶程序占有的*后一個地址為止，形成一個掃描循環(huán)，周而復(fù)始。順序掃描的工作方式簡單直觀，它簡化了程序的設(shè)計，并為PLC的可靠運行提供了保證。一方面所掃描到的指令被執(zhí)行后，其結(jié)果馬上就可以被將要掃描到的指令所利用。另一方面還可以通過CPU設(shè)置掃描時間監(jiān)視定時器來監(jiān)視每次掃描是否超過規(guī)定的時間，從而避免由于CPU內(nèi)部故障使程序執(zhí)行進入死循環(huán)而造成的故障。

Sumitomo SU-01C72 Aviza WJ 815008-418

      AMAT 0010-38755 Centura DPS Dome Temperature Controller 0060-35212

      AMAT Centura DPS Tempurature Controller DTCU, 0060-35211, 0060-35210

      THERMO SCIENTIFIC NICOLET 6700     

      AMAT 0010-22037 G12 Source Assy w/ Side Cooling, 0040-23104/ 0020-20149

      Mitutoyo Ultraplan FS110          

      Leica DM4000 M w/ Noran Vantage DAQ, Spectra physics VSL 337 NDS-61

      Jeol Controller Cabinet Assembly, JST-10F, 880-9901-1, 307702-A1B-T2

      Hitachi M-308ATE             

      ZYGO KMS450i             

      Aetrium 1164              

      TEL Tokyo Electron P-12XL          

      KLA Tencor 5107 Overlay Inspection System, KLA 5100

      Semiconductor Diagnostics SDI 210, 210E-SPV

      Fusion Semiconductor G03        

      LAM 490B AutoEtch 490 Plasma Etcher w/ ENI OEM-6M-01

      LAM 490B AutoEtch 490 Plasma Etcher w/ ENI OEM-6L

      LAM 490B AutoEtch 490 Plasma Etcher w/ ENI OEM-650A

      LAM 590 AutoEtch 590B Plasma Etcher w/ ENI OEM-12A

      Jeol SEM Scanning Electron Microscope Controller Rack, JST-10F

      LAM LF 4500                     

      Plasmatherm SL-730             

      LAM LF 4500 Plasma Etcher, LAM 2080TCU Chiller, ENI LPG-12A   

               LAM LF 4400                        

      Rudolph FE-3                    

      MicroTech Systems Solvent Wet Bench, 4 Tanks, Autoprocess, 451062

      DNS Screen DNS 80A             

      AMAT Applied Materials Precision 5000 Nitride PARC PECVD System P5000, 325970     

      Carl Zeiss AIMS 193               

      AMAT Precision 5000 Mark II PECVD System, P5000, Chamber, 200mm, 451064

      Semitool SST 742 Polymer remover, SSTC742280K

      Chemraz 9326-SC513, 2-326      

      AMAT 0620-02464