膜厚儀采用二次熒光法：它的原理是物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài)，此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來，而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度，來進(jìn)行定性和定量分析。
在生產(chǎn)過程中如何選擇膜厚儀呢?
    首先取決于你所測(cè)產(chǎn)品的結(jié)構(gòu).如果只是簡(jiǎn)單的涂層,銅箔使用普通的膜厚儀就可以解決了.如：銅箔測(cè)厚儀,涂層測(cè)厚儀.
如果測(cè)電鍍層的厚度,而且具有幾層鍍層,那么就要使用x-射線膜厚儀.單鍍層厚度大于0.5um的還可以采用金相法觀察.