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WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

  • 價 格: 電議
  • 型號:
  • 生 產(chǎn) 地:中國大陸
  • 訪問:0次
  • 發(fā)布日期:2022/6/21(更新日期:2023/4/25)

東莞市長安姝伊氣動配件商店

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晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)道重要制程,通過嚴格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片,降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是種特殊設(shè)計的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi),可以達到±0.03℃,是目研究晶圓半導體重要輔助工具。
  • 詳細內(nèi)容
  • 公司簡介
 WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

 

關(guān)鍵詞:晶圓,均勻,6寸


 

晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)道重要制程,通過嚴格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片,降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是種特殊設(shè)計的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi),大可以達到±0.03℃,是目研究晶圓半導體重要輔助工具。

主要技術(shù)參數(shù);

1、溫度:室溫-200℃,650℃,1000℃,

2、加熱速率:40/min,

3、加熱臺尺寸:6寸,8寸,12寸等可以定制

4、控溫精度:±

5、加熱溫度均勻度允許誤差:±1 

6、加熱臺需可抗壓:100KN

7、可配合各種電學測試設(shè)備進行電學數(shù)據(jù)功能采集

8、表面處理:鍍膜,鍍金或是黑礬石

9、熱臺材質(zhì):不銹鋼或銅

10、可以配合各種電學測試系統(tǒng)及探針測試



               6寸晶圓在不同溫度下均勻性

晶圓是指硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,其形狀為圓形;晶圓高溫測試是集成電路行業(yè)道重要制程,通過嚴格的高溫測試可以預(yù)先剔除不良芯片,降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是種特殊設(shè)計的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測試精度,要求整個吸盤表面各點的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi),大可以達到±0.03℃,是目研究晶圓半導體重要輔助工具。

依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動,并以共贏、開創(chuàng)經(jīng)營理念,以全新的管理模式和周到的服務(wù),用心服務(wù)于客戶
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