X光光電子能譜儀 (XPS/ESCA)在半導體、LED、印刷電路板及面板產(chǎn)業(yè)中，表面元素分析在產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)線監(jiān)控上，扮演重要角色。在各項表面分析設備中，XPS (X光光電子能譜儀, 亦稱 ESCA)廣為業(yè)界應用，主要原因來自于，XPS能同時得到材料表面元素分布及化學鍵結(jié)等信息，且不受樣品導電性的限制。 XPS分析原理 XPS原理簡單說就是光電效應，藉由X光光電子能譜分析材料表面各種元素之化學狀態(tài)。當X光由材料表面入射進入內(nèi)部時，X光會將原子內(nèi)之核心電子或鍵結(jié)電子激發(fā)至激態(tài)，靠近材料表面之高能態(tài)電子將有機會逃離材料表面，這些逃離材料表面之電子即稱為X光光電子。分析被激發(fā)出的光電子能量可得到組成元素種類，更可以得知其化學訊息，判斷化學態(tài)。 iST服務范疇 iST宜特科技特高階XPS – Quantera II掃描式X光光電子能譜儀，相較傳統(tǒng)XPS特小僅能達到50微米的微區(qū)分析能力，宜特Quantera II特小可達7.5微米，能針對樣品表面更細微的結(jié)構(gòu)進行分析，滿足業(yè)界所需。 此外，傳統(tǒng)XPS是用光學方式進行定位，在微區(qū)選擇分析上往往會因為放大倍率的不足而影響微區(qū)選擇的準確性，造成其分析結(jié)果無法判讀(分析結(jié)果非正確來自于目標微區(qū))。而Quantera II在樣品定位上除了傳統(tǒng)的光學影像外，還可透過聚焦X-ray的方式來得到更高倍率的SXI二次電子影像 (Scanning X-ray Induced secondary electron image, 成像原理與SEM雷同)，大大提高微區(qū)選擇分析的準確性，分析能力大為躍進。機臺規(guī)格： 廠牌及型號：PHI QuanteraII X射線束特小直徑：7.5um 能量分辨率：0.48 eV (Ag3d5/2) 試片定位：SPS光學及SXI成像 試片大�。�<75mm XPS 主要功能 表面分析(Surface survey) : 樣品表面75A以內(nèi)的成份分析。 表面化學組態(tài)分析 (Narrow scan) : 樣品表面75A以內(nèi)的元素化學組態(tài)鍵結(jié)分析。 縱深分析 (Depth Profile) : 藉由Ar 離子濺蝕樣品的表面，得到不同深度的元素訊號之縱深分布。 圖譜分析(Mapping) : 分析樣品區(qū)域元素訊號，得到區(qū)域元素分布影像圖。 線掃描(Line scan): 分析樣品直線上的元素訊號，得到直線元素分布圖。 XPS 分析應用 樣品氧化狀況(氧化層厚度及氧化態(tài))分析。 多層薄膜的縱深成分分析。 表面組成分析。 表面污染/變色之成份分析。關于宜特：iST始創(chuàng)于1994年的臺灣，主要以提供集成電路行業(yè)可靠性驗證、失效分析、材料分析、無線認證等技術服務。2002年進駐上海，全球現(xiàn)已有7座實驗室12個服務據(jù)點，目前已然成為深具影響力之芯片驗證第三方實驗室。