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薄膜檢測儀

薄膜檢測儀

  • 價 格: 電議
  • 型號:
  • 生 產(chǎn) 地:河北廊坊
  • 訪問:210次
  • 發(fā)布日期:2009/11/2(更新日期:1900/1/1)

標(biāo)普納米測控技術(shù)有限公司

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薄膜檢測儀是我公司經(jīng)多年研究而開發(fā)成功的一種薄膜測量儀器,對各種薄膜可以精確測量厚度、均勻性、薄膜彈性模量等,并且可以與計算機(jī)連接通訊,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)自動處理,從而提高了檢驗(yàn)速度,減輕了檢測人員的勞動強(qiáng)度。該儀器對環(huán)境溫度波動不敏感,經(jīng)濟(jì)實(shí)用,適合于各種薄膜企業(yè)的工藝控制和計量檢測單位或部門的檢測使用。
  • 詳細(xì)內(nèi)容
  • 公司簡介
薄膜檢測儀

 

用   途:
    薄膜檢測儀是我公司經(jīng)多年研究而開發(fā)成功的一種薄膜測量儀器,對各種薄膜可以精確測量厚度、均勻性、薄膜彈性模量等,并且可以與計算機(jī)連接通訊,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)自動處理,從而提高了檢驗(yàn)速度,減輕了檢測人員的勞動強(qiáng)度。該儀器對環(huán)境溫度波動不敏感,經(jīng)濟(jì)實(shí)用,適合于各種薄膜企業(yè)的工藝控制和計量檢測單位或部門的檢測使用。
主要參數(shù):
型 號數(shù)顯分辨率最大示值誤差測量范圍
BM10-010.1μm±(0.4+0.04L)μm0-10mm
BM10-0010.01μm ±(0.1+0.01L)μm0-10mm
BM10-00050.005μm ±(0.04+0.004L)μm0-10mm
BM10-00010.001μm±(0.02+0.002L)μm0-10mm
注: L為光電傳感器的實(shí)際使用范圍(單位:mm), Lmax=10
構(gòu)   成:
    由光電傳感器、測量座(標(biāo)準(zhǔn)式或便攜式)、抬落機(jī)構(gòu)(電動式、快門線式、手提式)、數(shù)顯表(參看交流或直流數(shù)顯表說明)等部分組成。
特   點(diǎn):
  1. 檢定快速,準(zhǔn)確。
  2. 測量值由數(shù)顯表直接顯示,讀數(shù)方便可靠,減少人為讀數(shù)誤差(參看交流或直流數(shù)顯表說明)。
  3. 獨(dú)特的設(shè)計使儀器結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性很高,溫度穩(wěn)定性很好。
  4. 測量重復(fù)性好,漂移量很小。
  5. 可實(shí)現(xiàn)任意位置清零、公/英制轉(zhuǎn)換、預(yù)先置數(shù)、自動求最大值和最小值等多種智能功能。
  6. 可通過與計算機(jī)連接通訊實(shí)現(xiàn)測量結(jié)果的自動記錄、自動處理、打印及統(tǒng)計分析等。
  7. 對環(huán)境溫度波動相對不敏感,現(xiàn)有基層計量室不必提高溫控要求即可使用。
  8. 可根據(jù)用戶的特殊需要進(jìn)行單獨(dú)設(shè)計。

標(biāo)普納米測控技術(shù)有限公司是國內(nèi)唯一專業(yè)從事微/納米光電測控技術(shù)研究、生產(chǎn)的股份制高科技企業(yè),總部、研究所設(shè)在北京,生產(chǎn)基地建在廊坊開發(fā)區(qū)。擁有世界一流水平的納米研究檢測中心、國內(nèi)領(lǐng)先的恒溫樓等設(shè)施,和以0.1納米基準(zhǔn)儀、激光波長比較儀等為代表的先進(jìn)設(shè)備和儀器,突出的軟硬件環(huán)境為公司眾多專家從事納米測控技術(shù)研究創(chuàng)造了極為難得的有利條件,同時也為公司的規(guī);a(chǎn)奠定了基礎(chǔ)。

標(biāo)普公司在國內(nèi)外有著較高的聲譽(yù)與影響。先后被列為國家級高新技術(shù)企業(yè)、國家級火炬計劃項(xiàng)目、國家重點(diǎn)技術(shù)改造“雙高一優(yōu)”項(xiàng)目、國家信息產(chǎn)業(yè)企業(yè)技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級重點(diǎn)項(xiàng)目等。經(jīng)國家級鑒定,公司主導(dǎo)產(chǎn)品的主要技術(shù)性能已達(dá)到國際領(lǐng)先水平,獲得了中國科技發(fā)展基金會和中國儀器儀表學(xué)會科技創(chuàng)新獎等獎項(xiàng)。公司的主要技術(shù)專家在國內(nèi)外享有較高聲譽(yù),曾為我國“兩彈一星”的測控技術(shù)做出過重要貢獻(xiàn),先后應(yīng)邀前往美國國家標(biāo)準(zhǔn)計量研究院、英國國家工程實(shí)驗(yàn)室、日本東京大學(xué)、澳大利亞南澳大學(xué)等地作專題學(xué)術(shù)報告。
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