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微粒晶片表面沉積系統(tǒng)
高效率微粒表面沉積系統(tǒng)包括最先進(jìn)的氣溶膠霧化發(fā)生、靜電分離及沉積技術(shù)，用于產(chǎn)生可溯源NIST的PSL球及加工過程顆粒沉積在晶片表面的標(biāo)準(zhǔn)晶片，用于研究不同折射稀疏對(duì)晶片檢測(cè)系統(tǒng)的影響并標(biāo)定檢測(cè)系統(tǒng)，也可用于評(píng)價(jià)晶片干法/濕法清洗系統(tǒng)的性能。
儀器特點(diǎn)：
l 通過DMA技術(shù)去處雙顆粒、三顆粒及其它雜質(zhì)顆粒，使之不能沉積在晶片表面
l DMA測(cè)量經(jīng)過溫度及壓力補(bǔ)償、使得產(chǎn)生可溯源NIST的PSL球標(biāo)準(zhǔn)晶片
l 符合CE Mark、SEMI S2/S8/S14等亞洲、歐洲及美國(guó)規(guī)范要求
l 通過DMA沉積單一粒徑顆粒于晶片表面
l 顆粒沉積粒徑：
標(biāo)準(zhǔn)單 DMA：0.08 – 1.0 µm
可選雙DMA：0.03 – 3.0 µm
l 4個(gè)內(nèi)置超聲波霧化發(fā)生器產(chǎn)生穩(wěn)定、高濃度的氣溶膠
科藝儀器有限公司 (A & P INSTRUMENT CO., LTD.) 1984年成立于香港，二十多年來(lái)以提供高素質(zhì)之科學(xué)儀器、完備之技術(shù)服務(wù)而倍受科研用戶的信賴。本公司所代理世界各國(guó)數(shù)十家高科技公司的產(chǎn)品，幾乎包括了所有科研、教學(xué)及生產(chǎn)所需的數(shù)萬(wàn)種儀器和設(shè)備。
產(chǎn)品內(nèi)容涉及以下三個(gè)方面：
1. 各種激光器、激光配件及光學(xué)光電子通訊產(chǎn)品；
2. 大學(xué)、中學(xué)各學(xué)科的教學(xué)儀器；
3. 實(shí)驗(yàn)室通用儀器及食品、環(huán)保監(jiān)測(cè)、材料測(cè)試儀器。
科藝儀器有限公司以提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和上佳的技術(shù)服務(wù)為宗旨，所有的員工都受過良好的訓(xùn)練和培訓(xùn)，具有較高的學(xué)識(shí)和能力。這支強(qiáng)大的員工隊(duì)伍使公司得以不斷的發(fā)展和完善。
該 掃描式高效過濾器撿漏及效率測(cè)定系統(tǒng) 為性能優(yōu)越的高效及超高效空氣過濾器自動(dòng)掃描撿漏及效率測(cè)定系統(tǒng)，可按照用戶要求定制。儀器可程序控制運(yùn)行參數(shù)，機(jī)械手帶動(dòng)采樣頭自動(dòng)二維掃描。
通用型濾材測(cè)試系統(tǒng) 一般測(cè)試系統(tǒng)包括氣溶膠發(fā)生器、氣溶膠粒徑譜儀、稀釋器、管路及分析軟件等，不同系統(tǒng)配置可用于測(cè)試濾料、小型過濾元件、高效過濾器、一般通風(fēng)過濾器、壓縮空氣過濾器、車用空氣過濾器及油霧分
EN1822型濾料測(cè)試系統(tǒng)該系統(tǒng)符合歐盟EN1822-3測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)要求。
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