技術(shù)指標(biāo)：
測(cè)試范圍　0.1－3500微米
數(shù)據(jù)處理　Fraunhofer或Mie理論
測(cè)量時(shí)間　約20秒(從開(kāi)始測(cè)量到顯示分析結(jié)果)
遮光比　最高可達(dá)50%
分散池　容積：250-1000毫升　材質(zhì)： 整體不銹鋼
樣品循環(huán)系統(tǒng)　內(nèi)置超聲波：60W, 功率和時(shí)間可調(diào)　　輔助可調(diào)速率的機(jī)械攪拌分散　　蠕動(dòng)循環(huán)泵：速率可調(diào)　循環(huán)管道：不銹鋼
操作軟件控制標(biāo)準(zhǔn)操作程序（SOP）
功能及特點(diǎn)：
1.全自動(dòng)進(jìn)料、測(cè)試和出料，分散介質(zhì)容量自動(dòng)監(jiān)測(cè)；
2.不同的尺寸的樣品池（2毫米、4毫米、6毫米）可供選擇�？焖龠M(jìn)料和出料，進(jìn)出料3.一個(gè)周期小于60秒；
4.一體化超聲分散設(shè)備，60W可調(diào)的能量輸出；
5.離心泵循環(huán)，泵的速率可無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)，全內(nèi)置不銹鋼循環(huán)管道，耐腐蝕；
6.系統(tǒng)全自動(dòng)清潔，避免不同樣品之間的交叉污染；
7.可選擇安裝的加熱裝置，最高可達(dá)100℃。帶恒溫夾套，可進(jìn)行恒溫測(cè)試；
8.可選附加的開(kāi)關(guān)和控制單元裝置來(lái)對(duì)外部進(jìn)料、出料、附加泵和其他相關(guān)傳感器進(jìn)行控制和操作。


1.干法測(cè)量激光粒度儀HELOS/RODOS（〈0.1-3500微米）
2. 干法測(cè)量激光粒度儀HELOS/RODOS（0.5-8750微米）
3. 濕法測(cè)量激光粒度儀HELOS/QUIXEL（0.1-3500微米）
4. 濕法測(cè)量激光粒度儀HELOS/SUCELL（0.1-3500微米）
5. 干濕二合一測(cè)量激光粒度儀HELOS/OASIS（0.1-3500微米）
6. 最新納米測(cè)試技術(shù)－光子交叉相關(guān)廣譜法（PCCS）納米粒度測(cè)量?jī)x（1-10000納米）
7. 最新動(dòng)態(tài)顆粒圖像分析儀QICPIC（1-10000微米）
8. 用于生產(chǎn)過(guò)程控制的干法在線檢測(cè)激光粒度儀TWISTER&MYTOS（0.25-3500微米）
9. 高濃度懸浮液乳濁液及各種漿料生產(chǎn)過(guò)程中的濕法在線粒度測(cè)量?jī)xOPUS（0.01-3000微米）
10.微樣進(jìn)料干法測(cè)量激光粒度儀HELOS/ASPIROS（0.1-350微米，樣品量：μg－mg）
11.用于DPI、MDI、Neulizer粒度測(cè)量的激光粒度儀HELOS/INHALER和HELOS/SPRAYER（0.25-1750微米）
12.用于噴灑液粒度測(cè)量的激光粒度儀HELOS/VARIO（0.1-8750微米）

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