參數(shù)規(guī)格
MicroLine-300是一款桌上型半自動CD測量系統(tǒng)。
主要技術(shù)參數(shù)：
    測量范圍(XYZ)：標(biāo)準(zhǔn)：200×200×25mm；可選：300x300x25
    視場內(nèi)測量精度：10nm(100X 鏡頭)；Z軸聚焦范圍：25 mm
    視場內(nèi)測量范圍：0.5um400um；
    視場內(nèi)測量重復(fù)性(100x 物鏡)：  晶圓上0.010um(1)； 掩模板上0.005um(1)；  
                                                   
    大承重：2kg
    標(biāo)配鏡頭10x，可選鏡頭：5X, 20X, 50X, 100X 
 
性能特點(diǎn)
MicroLineTM 300是一款高性能測量晶圓、光罩、MEMS和其他微加工設(shè)備等關(guān)鍵尺寸的自動化測量系統(tǒng)。該系統(tǒng)配備了高質(zhì)量光學(xué)顯微鏡和精密移動平臺，可對200mm的晶圓上0.5m到400m的特征尺寸進(jìn)行全自動的精密視場測量。
n  200 x200mm精密X-Y平臺
n  基于視覺的自動聚焦獲得佳影像質(zhì)量
n  自動照明可編程光強(qiáng)
n  用于測量透明層、不規(guī)則邊緣的線、厚膜等的強(qiáng)勁性能
n  完全可編程的序列，包括自動聚焦和關(guān)鍵尺寸測量
n  電動的6目物鏡轉(zhuǎn)換器，軟件控制
n  可選的透射照明

技術(shù)規(guī)格：
- 測量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)
- 平臺運(yùn)行: 交叉滾軸手動同軸定位和快速釋放
- 視場內(nèi)的測量精度: 0.010m (用100x物鏡)
- 特征尺寸: 視場內(nèi)0.5m - 400m
- FOV測量重復(fù)性: 0.010m on wafers (用100x物鏡)
0.005m on photomasks (用100x物鏡)
- 照明: 石英鹵素?zé)? 反射光
       自動照明
- 低噪音CCD VGA格式攝像頭
- 圖像處理60幀每

應(yīng)用域
MicroLine 300的典型應(yīng)用包括：
l  晶圓
l  光罩
l  MEMS
l  微型組件

適用范圍
測量類型:
 關(guān)鍵尺寸:
線寬  Linewidth
節(jié)距  Pitch
間隙  Spacing

 Overlay:
Multi-layer registration
Box in box
Circle
Edge roughness
Butting error