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產(chǎn)品展示

各種規(guī)格鍍錫銅線 性能穩(wěn)定電子線 跳線

點擊次數(shù):10發(fā)布時間:2018/12/4 14:14:59

各種規(guī)格鍍錫銅線 性能穩(wěn)定電子線 跳線

更新日期:2021/1/19 9:15:55

所 在 地:中國大陸

產(chǎn)品型號:HUAJU

簡單介紹:各種規(guī)格鍍錫銅線 性能穩(wěn)定電子線 跳線

相關(guān)標(biāo)簽:鍍錫銅線 電子線 CP跳線 

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

詳細(xì)內(nèi)容

 供應(yīng)各種規(guī)格鍍錫銅線 性能穩(wěn)定電子線優(yōu)良可焊性

鍍錫銅線產(chǎn)品特性:
1、鍍錫銅線擁有極之優(yōu)良的可焊性。
2、隨著時間變化,可焊性仍保持良好,可長期儲藏。
3、表面平滑、光亮、潤澤。
4、性能穩(wěn)定可靠,確保優(yōu)質(zhì)、高產(chǎn)。
鍍錫銅線產(chǎn)品適用范圍:
 1、電阻和電容;
 2、光敏元件、二極管和晶體管的傳感器;
 3、跳線等電子元件;電線.電纜生產(chǎn)廠家的產(chǎn)品及其它用途;
 本公司生產(chǎn)的鍍錫銅線(跳線)環(huán)保質(zhì)量達(dá)到國家控制標(biāo)準(zhǔn)SGS-6項認(rèn)證
(二)包裝方式:產(chǎn)品包裝方式分為三種:膠軸、紙筒
 
1、膠軸裝:小膠軸:3-5kg;中膠軸:12-18kg;大膠軸:25-30kg;
2、紙筒裝:18-25kg  















各種規(guī)格鍍錫銅線0.5MM/0.6mm/0.8MM/1.0mm鍍錫銅線

佛山市順德區(qū)昊瑞電子科技有限公司主要經(jīng)營無鉛輔助材料:鍍錫銅線,銅包鋼線,錫膏,紅膠,熱溶膠,硅膠,導(dǎo)熱硅脂,助焊劑,清洗劑,防潮油,焊錫條,焊錫絲等   
昊瑞電子:
阿里巴巴:
鍍錫銅線具有優(yōu)良熱穩(wěn)定和機械耐磨及電絕緣性能,可抗強酸、耐腐蝕、耐火不燃,氧指數(shù)高、低煙無鹵、不老化。

產(chǎn)品型號:0.5MM/0.6mm/0.8MM/1.0mm鍍錫銅線



鍍錫銅:

鍍錫銅,是指表面鍍有一薄層金屬錫的銅,如鍍錫銅線,在線纜加工制造過程中有一定的應(yīng)用。

鍍錫能防止銅暴露在空氣中而被氧化形成一層膜——銅綠。而銅綠的導(dǎo)電性很差會增加電阻。盛裝食物的器皿產(chǎn)生銅綠后可能對人體有害。因而鍍錫主要就是為了防止銅被氧化。

簡介

銅由于其優(yōu)異的性能以及低廉的價格,被廣泛應(yīng)用于電子信息、潤滑、催化和冶金等領(lǐng)域。但銅在空氣中極易氧化,并且粒度越細(xì),氧化越嚴(yán)重。為了提高銅的抗氧化性能,可在銅表面包覆惰性金屬。包覆惰性金屬層不僅能較顯著地提高銅的抗氧化性能,而且能較好地保持其導(dǎo)電性。錫雖然不屬于惰性金屬,性質(zhì)也比銅活潑,但常溫下錫在空氣中很穩(wěn)定,因錫的表面會生成一層致密的氧化物膜,阻止錫的繼續(xù)氧化。因此,銅表面鍍錫可在一定程度上提高銅的抗氧化性。鍍錫銅的穩(wěn)定性、導(dǎo)電性、耐磨性、抗腐蝕性和電磁屏蔽性都較好,具有很好的應(yīng)用前景。

 

相關(guān)研究

鍍錫銅粉的制備

有關(guān)鍍錫銅粉的報道較少,其制備方法主要是化學(xué)置換法。由于置換反應(yīng)生成的銅離子會從銅粉表面擴散到溶液中,該擴散需要有孔道,因此制備的鍍錫銅粉中鍍錫層松散,必然存在孔洞,致密性較差。為了提高鍍層致密性,探索新的鍍錫方法很有必要。一般認(rèn)為,還原法能夠克服上述置換法制備鍍錫銅粉的缺點,但由于錫的析氫過電位高,自催化活性低,用一般還原劑還原有難度。

有學(xué)者采用硼氫化鈉還原氫氧化錫,在銅粉表面進行化學(xué)鍍錫,得到鍍錫銅粉。用兩面粗糙度不同的銅箔替代銅粉進行模擬試驗,以研究錫層在銅粉表面的包覆情況和微觀結(jié)構(gòu)以及高溫處理和制備方法對鍍錫層顯微結(jié)構(gòu)的影響。結(jié)果表明,銅粉表面完整地包覆了一層均勻致密的鍍錫層;采用還原法制備的鍍錫層比采用置換法制備的鍍錫層更為均勻致密,高溫處理可進一步提高鍍錫層的均勻性和致密性。

鍍錫銅箔表面小丘和晶須的生長行為

在電子產(chǎn)品的封裝互連中,鍍錫銅元件引腳隨時間延長,有錫晶須形成,從而引發(fā)電子器件短路,甚至造成電子系統(tǒng)失效。

有學(xué)者 針對鍍錫銅箔表面的小丘和晶須的生長行為進行研究。首先,用化學(xué)鍍在銅箔表面鍍錫。將鍍錫銅箔樣品在100℃和200℃空氣中時效8d,為了便于分析實驗結(jié)果,將另一組鍍錫銅箔樣品在室溫時效30d。用掃描電子顯微鏡觀察樣品表面形貌,用X射線衍射儀對試樣進行晶體結(jié)構(gòu)分析。

結(jié)果表明:樣品在100℃時效有小丘和晶須形成,而在200℃時效8d和在室溫時效30d沒有晶須形成。晶須生長是由鍍層內(nèi)部存在的壓應(yīng)力梯度引起的,并有一個孕育期。隨時效溫度的變化,原子擴散速度和鍍層的應(yīng)力松弛不同控制了小丘和晶須的形成。

 


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