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產(chǎn)品展示

H52-8-SV1/ZF全自動(dòng)勻膠機(jī)

點(diǎn)擊次數(shù):1558發(fā)布時(shí)間:2009/11/2 0:00:00

H52-8-SV1/ZF全自動(dòng)勻膠機(jī)

更新日期:1900/1/1 0:00:00

所 在 地:西安捷盛電子技術(shù)有限責(zé)任公司

產(chǎn)品型號(hào):

簡(jiǎn)單介紹:H52-8-SV1/ZF全自動(dòng)勻膠機(jī)主要用于半導(dǎo)體及集成電路生產(chǎn)線中晶片處理的勻膠(也稱涂膠)

相關(guān)標(biāo)簽:勻膠臺(tái) 劃片機(jī) 

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

詳細(xì)內(nèi)容

H52-8-SV1/ZF全自動(dòng)勻膠機(jī)

自動(dòng)勻膠機(jī) 勻膠機(jī)

SV系列晶片處理系統(tǒng)片盒到片盒的全自動(dòng)工作方式工藝工步:送片盒→涂膠顯影到→ 熱板烘烤→收片盒托盤傳送方式,安全、可靠液晶顯示界面,具有編程、運(yùn)行、服務(wù)等功能具有完善的故障診斷和自診斷功能 PWM伺服調(diào)速系統(tǒng)調(diào)速,轉(zhuǎn)速范圍,加速度高顯影時(shí)間可控、壓力可調(diào)滴膠量可控具有顯影時(shí)防漏滴設(shè)計(jì),徹底消除漏滴具有清洗、吹氮等功能

H52-8-SV1/ZF全自動(dòng)勻膠機(jī)主要技術(shù)規(guī)格:

1、晶片尺寸:2˝或3˝

2、轉(zhuǎn)速:200—8000RPM(轉(zhuǎn)/分),精度±10RPM 增量:1RPM

3、主軸加速度:40000RPM/s(只對(duì)涂膠機(jī))

4、顯影液溫度控制:5℃~50℃,精度±1.5℃

5、高壓噴洗壓力:6.6~20.4Mpa

6、可靠性:MTBF》150h  MTTR《2h

7、工藝工步時(shí)間:999.9秒,增量0.1秒

8、外形尺寸(L×B×H):900mm×340mm×930mm

9、重量:~300公斤

10、電源條件:115Vac±10%、50Hz

11、供氮?dú)鈼l件:》0.3Mpa,純度99.99%,外接外徑為Φ6mm,內(nèi)徑為Φ4mm氮?dú)夤?

12、供真空條件:總抽氣量120m3/min,真空度為-0.085Mpa,     外接管徑為:外徑Φ6mm 、內(nèi)徑Φ4mm

13、排氣:抽氣量2.83m3/min

14、排氣管徑為Φ100mm,以上11~14為單機(jī)所需條件

相關(guān)產(chǎn)品鏈接:

勻膠機(jī)/涂膠機(jī)  腐蝕清洗機(jī)  清洗甩干機(jī)    熱板爐烘烤  劃片機(jī)  顯影機(jī)  半自動(dòng)晶片處理系統(tǒng)

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