產(chǎn)品展示
優(yōu)質(zhì)供應(yīng)
詳細(xì)內(nèi)容
AP-3 & AP-4研磨頭,功能齊備,用于高/低量的半自動(dòng)樣品制備,可以選擇中心旋轉(zhuǎn)和個(gè)別旋轉(zhuǎn)等工作方式。導(dǎo)電氣動(dòng)系統(tǒng)控制研磨樣品的力量,并根據(jù)裝置、研磨盤、樣品固定臺(tái)等條件,一次可以同時(shí)制備1至10個(gè)樣品。它適用于METPREP和DUALPREP拋光機(jī),可配置8、10、12英寸(203mm,254mm,304mm)研磨盤。 微處理器控制AP-3 & AP-4與拋光機(jī)相結(jié)合,能提供50個(gè)步驟的自動(dòng)程序,包括開始/結(jié)束,時(shí)間,試品的研磨力度,研磨盤的速度/轉(zhuǎn)向,水的控制等等。獨(dú)特的傾斜設(shè)計(jì)使操作更方便,樣品臺(tái)與研磨盤之間沒有任何阻礙,研磨頭在程序準(zhǔn)備期間不必重新配置。 可選用多種工作方式的樣品臺(tái)。圓狀樣品臺(tái)適用于熱包埋樣品,淚狀樣品臺(tái)適用于冷包埋樣品或未包埋的樣品。
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中心研磨專用樣品臺(tái): 5.25英寸(134mm)適合8", 10"或12"(203mm, 254mm,304mm)研磨盤: | ||||||||||||||||||||||||
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6.3英寸(160mm)(適合10"或 12"研磨盤) | ||||||||||||||||||||||||||
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單獨(dú)研磨專用樣品臺(tái): 適合8", 10"或 12"研磨盤 | ||||||||||||||||||||
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