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產(chǎn)品展示

真空鍍膜系統(tǒng)

點(diǎn)擊次數(shù):1937發(fā)布時(shí)間:2009/11/2 0:00:00

真空鍍膜系統(tǒng)

更新日期:1900/1/1 0:00:00

所 在 地:日本

產(chǎn)品型號(hào):

簡(jiǎn)單介紹:新明和(ShinMaywa)的科學(xué)技術(shù)從許多方面支持了日本的基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè),特別是在光學(xué)鍍膜方面。Shinmaywa尤其擅長(zhǎng)于精密的光學(xué)塑膠鍍膜。

相關(guān)標(biāo)簽:真空 鍍膜 塑膠 

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

詳細(xì)內(nèi)容

離子鍍膜系統(tǒng)超級(jí)等離子高密度鍍膜機(jī)


AR/UV-IR Cut 一次性于同一批生長(zhǎng)鍍膜是可能的
特別適合“塑料”鍍膜
在很低的真空范圍內(nèi) (10 -3 Pa) 下產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子 , 也就是說(shuō) , 在塑料底盤上加膜是可能的 ( 低于 212 ℉ [ 100 ℃ ])
可以生產(chǎn)高粘度與高密度的薄膜
裝置的運(yùn)作費(fèi)用低

用途: 多層光學(xué)薄膜適用與塑料底盤上加膜的

NBPF 光學(xué)鍍膜系統(tǒng) VRD1200AD
特點(diǎn) :

大型玻璃結(jié)晶板的外圍裝有濾光器,大幅度提高生產(chǎn)率
配有適合于 NBPF 裝置的高性能光學(xué)薄膜厚度測(cè)量計(jì)
在玻璃結(jié)晶板高速運(yùn)轉(zhuǎn)的情況下,薄膜的厚度可以保持一致
比傳統(tǒng)方式可以增加 10 倍以上產(chǎn)能
用途:

適用于頻率為 100 兆赫茲的 NBPF 加膜


三腔光學(xué)真空蒸發(fā)器 VRD1200LAD

特點(diǎn) :

以整批構(gòu)成的新明和全自動(dòng)加膜系統(tǒng)為基礎(chǔ),通過(guò)負(fù)荷電閘連結(jié)方式,可以大量生產(chǎn)品質(zhì)穩(wěn)定的產(chǎn)品
系統(tǒng)適合高溫加工(玻璃襯底 300 ℃ ),也能進(jìn)行低溫加工 ( 塑料或樹(shù)脂襯底: 100 ℃ )
3 槽向外展開(kāi), 3-5 槽同軸展開(kāi),結(jié)晶板半球形圓頂?shù)某叽纾?在 1600mm 內(nèi)都可使用
電極引出裝置有多項(xiàng)選擇:配上可長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)生產(chǎn)的各種加膜電源多點(diǎn)赫茲、材料接口
用途:

適用于各種以大量生產(chǎn)透鏡、反射鏡為目的的光學(xué)薄膜



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