產(chǎn)品展示
微觀四點(diǎn)探針
點(diǎn)擊次數(shù)：454發(fā)布時(shí)間：2009/11/2 0:00:00
更新日期：1900/1/1 0:00:00
所 在 地：丹麥
產(chǎn)品型號(hào)：CIPTech
優(yōu)質(zhì)供應(yīng)
詳細(xì)內(nèi)容
SCM
◆ 材料表面 Nano微區(qū)范圍的『阻抗』分析
＊ SPM-CIPTech
◆ IBM & Infineon技術(shù)『Current In-Plane Tunneling』
◆ MRAM、讀寫(xiě)磁頭的 MTJ 『磁阻』和『隧阻』
＊ micro RSP
◆ 超淺結(jié)『Ultra Shallow Junction』 『阻抗』分析
＊ M4PP SEM Module
◆ SEM 在線(xiàn)微區(qū) Sheet Resistance 點(diǎn)測(cè)模塊
◆ 配合 FIB 進(jìn)行在線(xiàn) Sheet Resistance 分析
＊ MFPP & M4PP：四點(diǎn)或多點(diǎn)奈米探針
微觀四點(diǎn)探針 M4PP ，比傳統(tǒng)的四點(diǎn)探針的間距小三個(gè)數(shù)量級(jí)，利用硅微加工技術(shù)加工而成。 CAPRES 可以提供間距為 5, 10, 15, 20, 25 和 30 微米的探針。
這種探針技術(shù)適用于材料微觀電性能的表征，是半導(dǎo)體和薄膜工業(yè)質(zhì)量控制的理想工具。它們也可被用于研究，例如對(duì)多晶材料中單晶�；騿萎牭碾妼�(dǎo)率進(jìn)行成像�；蛘咴摷夹g(shù)可用于在超高真空 UHV 下，清潔硅片由于表面重構(gòu)造成的微觀電子輸送的改變。這項(xiàng)技術(shù)是 MIC 和日本東京大學(xué)物理系合作的部份結(jié)果。
CAPRES 現(xiàn)正致力于為客戶(hù)的特殊要求定制探針，可以制作間距小至 1.5 微米的探針。
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