K575X使用“渦輪”泵，前級為旋片式機(jī)械泵，整個抽真空過程為自動控制。
真空度可調(diào)整，以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬，以及金靶等不同材料要求，定時器可設(shè)置成不同的濺射時間。
本系統(tǒng)裝配了磁控管靶，靶面直徑為54 mm，可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層（無需水冷卻）。
濺射時參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁閥。
K575d（雙頭）其它與K575X相同，只是具有兩個濺射頭。在進(jìn)行特殊涂層的應(yīng)用時，不需要打開真空即可進(jìn)行兩層沉積濺鍍。
注：K575d技術(shù)規(guī)格與K575X相同，但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷，對于比較厚的沉積，通常用K575d（雙頭）單元，它需要用水冷卻。

優(yōu)點(diǎn) ● 可濺射易氧化金屬精細(xì)顆粒，如：鉻或銥 ● 易操作 ● 無需水冷卻 ● 超高分辨率，可復(fù)制涂層 ● 適應(yīng)各種樣品 ● 重復(fù)膜厚沉積 ● 樣品容易裝載和卸載 ● 不需要打開真空即可進(jìn)行順序涂層 ● 沉積厚度可預(yù)設(shè)

技術(shù)規(guī)格

儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩：聚碳酸酯
基座： 110 mm直徑x 115mm高
重量：42公斤
靶：54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材)
樣品臺：60mm直徑，具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺
真空范圍：ATM-1x10^-5 mbar
操作真空：1 x 10^-3 mbar到 1 x 10^-4 mbar
濺射電流：0-150mA
沉積速率：0-20nm/分
濺射定時： 0-4 分鐘
渦輪分子泵：60 litres/Second (極限真空 1x10^-8 mbar)
Services - Argon - Nominal 10 psi；
         Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m³/Hr
電源：230 伏 50Hz(包括泵電流為6安培)
      115 伏 60Hz(包括泵電流為12安培)