通過(guò)分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜，用相應(yīng)的軟件來(lái)擬合運(yùn)算，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n，消光系數(shù)k。該設(shè)備關(guān)鍵部件均為國(guó)外進(jìn)口，也可根據(jù)客戶需要整機(jī)進(jìn)口。

儀器特點(diǎn)

1  非接觸式測(cè)量，用光纖探頭來(lái)接收反射光，不會(huì)破壞和污染薄膜；

2  測(cè)量速度快，測(cè)量時(shí)間為秒的量級(jí)；

3  可用來(lái)測(cè)薄膜厚度，也可用來(lái)測(cè)量薄膜的折射率n和消光吸收k；

4  可測(cè)單層薄膜，還可測(cè)多層膜系；

5  可廣泛應(yīng)用于各種介質(zhì)，半導(dǎo)體，液晶等透明半透明薄膜材料；

6  軟件的材料庫(kù)中整合了大量材料的折射率和消光系數(shù)，可供用戶參考；

7  內(nèi)嵌微型光纖光譜儀，結(jié)構(gòu)緊湊, 光纖光譜儀也可單獨(dú)使用。

參數(shù)和性能指標(biāo)

厚度范圍： 20nm-50um（只測(cè)膜厚），100nm-25um（同時(shí)測(cè)量膜厚和光學(xué)常數(shù)n，k）

準(zhǔn)確度：     <1nm或<0.5%

重復(fù)性：     0.1nm

波長(zhǎng)范圍： 380nm-1000nm

可測(cè)層數(shù)： 1-4層

樣品尺寸： 樣品鍍膜區(qū)直徑>1.2mm

測(cè)量速度： 5s-60s

光斑直徑： 1.2mm-10mm可調(diào)

儀器成套性

測(cè)厚儀主體（內(nèi)含光源和光纖光譜儀），光纖跳線，光纖探頭，標(biāo)準(zhǔn)硅片，支撐部件，配套軟件

可擴(kuò)展性

通過(guò)光纖連接帶有C口的顯微鏡，就可以使本測(cè)量?jī)x適用于微區(qū)（>10um）薄膜厚度的測(cè)量。

強(qiáng)大的軟件功能

界面友好，操作簡(jiǎn)便；

可保存測(cè)量得到的反射譜；

可讀取保存的反射率數(shù)據(jù)；

可選擇是否測(cè)量折射率n，消光系數(shù)k；

可選擇光譜范圍；

可猜測(cè)薄膜厚度以節(jié)省測(cè)量時(shí)間；

可從大量的材料庫(kù)中選擇薄膜和基底的材料；

用戶可自己擴(kuò)充材料庫(kù)。

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