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產(chǎn)品展示

金離子濺射儀(小型)

點(diǎn)擊次數(shù):2507發(fā)布時(shí)間:2009/11/2 0:00:00

金離子濺射儀(小型)

更新日期:1900/1/1 0:00:00

所 在 地:北京

產(chǎn)品型號(hào):ETD-200

簡(jiǎn)單介紹:小型金離子濺射儀,掃描電子顯微鏡,樣品制備設(shè)備

相關(guān)標(biāo)簽:離子濺射儀 離子濺射 小型金離子濺射儀 

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

詳細(xì)內(nèi)容

金離子濺射儀ETD-200小型 特點(diǎn):

靶(上部電極):材料:金,

直徑:64mm,厚度:0.12mm(大約)

真空室:直徑:160mm,高:120mm

樣品臺(tái)(下部電極):濺射面積:直徑:64mm,放置樣品數(shù)量:16個(gè)

離子電流表:電流:100mA

定時(shí)器:*長(zhǎng)時(shí)間:900S

電壓: -1600V

電源開(kāi)關(guān)

機(jī)械泵: 2升/每秒

可選:真空控制針閥

靶材可按用戶(hù)要求加工制作

相關(guān)產(chǎn)品鏈接:

 

ETD-200小型金離子濺射儀

掃描電子顯微鏡(SEM)圖像系統(tǒng)改造

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