英文名稱(chēng):p-Coumaric acid;4-Hydroxycinnamic acid

其他名稱(chēng):(E)-3-(4-羥苯基)-2-丙烯酸;對(duì)羥基苯基丙烯酸;對(duì)香豆酸;4-香豆酸;反式對(duì)羥基肉桂酸;反式桂皮酸;對(duì)羥苯丙烯酸

CAS號(hào):501-98-4

C9H8O3=164.16

別:AR

含量:≥98%

熔點(diǎn):210~223℃

性狀(以下信息僅供參考):淺黃色針狀結(jié)晶。溶于熱水、熱乙醇,微溶于冷水,幾乎不溶于苯和石油醚。有刺激性。

用途:本品僅供科研,不得用于其它用途

保存:RT

4-羥基肉桂酸,501-98-4高純?cè)噭┯址殖蓭状箢?lèi):

? 普通離純?cè)噭?/span>

是指一些高純單質(zhì)金屬、氧化物、金屬鹽類(lèi)等,常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導(dǎo)體基礎(chǔ)材料等,金屬單質(zhì)的氧化物、用來(lái)配制標(biāo)準(zhǔn)溶液和作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),該類(lèi)試劑常要求含量在 4N-6N 之間。

? 超凈電子純?cè)噭?/span>

超凈高純?cè)噭┦羌�成電�? IC )制造工藝中的用化學(xué)品,用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。對(duì)這種高純?cè)噭┲锌扇苄噪s質(zhì)和固態(tài)微粒要求非常嚴(yán)格,為適應(yīng) IC 集成度不斷提高的需求,上半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)( Semiconductor Industry Association )近來(lái)推出 Semic7( 適合 0.8-1.2 微米工藝技術(shù) ) 和 Semic8( 適合于 0.2-0.6 微米工藝技術(shù) )4-羥基肉桂酸,501-98-4 別的試劑質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。我國(guó)在原有 MOS 、 BV-I 試劑的基礎(chǔ)上,又制定出 BV-II 和 BV-III 試劑標(biāo)準(zhǔn)(相當(dāng)于 Semic7 )。我研究所也研制多種 MOS 、 BV-I  BV-II 和部分 BV-III 試劑,其顆粒度( 0.5 微粒顆粒)≤ 25-100 個(gè)∕ ml ,金屬雜質(zhì)總量≤ 10 -3 — 10 - 5 ﹪

? 光刻膠高純?cè)噭?/span>

光刻工藝是一種表面加工技術(shù),在半導(dǎo)體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實(shí)現(xiàn)選擇性腐蝕,采用一類(lèi)具有抗蝕作用的感光樹(shù)脂材料作為抗蝕涂層,稱(chēng)為抗蝕劑,國(guó)內(nèi)通稱(chēng)光刻膠。按照溶解度的不同而將光刻膠分為“正性”光刻膠和“負(fù)性”光刻膠,按所用曝光光源和輻射光源的不同,4-羥基肉桂酸,501-98-4又可將其分為紫外、遠(yuǎn)紫外、電子束、 X 射線(xiàn)等光刻膠。

光刻膠是微細(xì)圖形加工的一種關(guān)鍵試劑,要求水分低、金屬雜質(zhì)含量低(≤ 10 -6 )

? 磨拋光高純?cè)噭?/span>

是指用于硅單晶片表面的研磨和拋光的高純度試劑。它又分磨粉(三氧化二鋁)和磨液(水和油劑),能研磨表面達(dá)到微米加工精度。這類(lèi)試劑要求顆粒粒度小(納米),純度高,金屬雜質(zhì)一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

? 液晶高純?cè)噭?/span>

液晶是一類(lèi)電子化學(xué)材料,是指在一定溫度范圍內(nèi)呈現(xiàn)介于固相和液相之間的中間相的有機(jī)物。它既有液態(tài)的流動(dòng)性也有晶態(tài)的各向異性,有時(shí)人稱(chēng)他為第四態(tài)。

液晶種類(lèi)繁多,4-羥基肉桂酸,501-98-4用途廣,景*的要屬 TN( 低檔 ) 、 STN (中高檔)、 TFT (高檔)型。 TN 、 STN 及 TFT 三種型號(hào)所組成的單體液晶,主要包括芳香酯類(lèi)、聯(lián)苯類(lèi)、苯基環(huán)已烷類(lèi)、鐵電類(lèi)以及含氟液晶品等五種,它們是當(dāng)及后使用及發(fā)展的主要對(duì)象。這類(lèi)高純?cè)噭┮�求含量�?≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金屬雜質(zhì)含量少(≤ 10 -6 )。