英文名稱:Emodin;1,3,8-Tri-hydroxy-6-methyl-anthra-qui;6-Methyl-1,3,8-tri-hydroxy-anthra-qui;Emodol;Frangula-emodin

其他名稱:大黃素;1,3,8-三羥基-6-甲基蒽醌;瀉素;2-甲基-4,5,7-三羥基蒽醌;6-甲基-1,3,8-三羥基蒽醌;瀉鼠李樹皮

CAS號:518-82-1

C15H10O5=270.24

別:試劑

含量:≥98.0%

性狀(以下信息僅供參考):橙色針狀結(jié)晶。溶于乙醇,略溶于、苯,不溶于水。溶于苛性堿水溶液、碳本酸鈉水溶液,氨溶液中顯櫻紅色。熔點:256-257℃

用途:本品僅供科研,不得用于其它用途。(以下用途僅供參考)抑制NF -κB活化及粘附分子的表達。酪蛋白激酶2(CK2的)抑制劑
保存:2~8℃

朱砂蓮甲素,518-82-1高純試劑又分成幾大類:

? 普通離純試劑

是指一些高純單質(zhì)金屬、氧化物、金屬鹽類等,常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導(dǎo)體基礎(chǔ)材料等,金屬單質(zhì)的氧化物、用來配制標(biāo)準(zhǔn)溶液和作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),該類試劑常要求含量在 4N-6N 之間。

? 超凈電子純試劑

超凈高純試劑是集成電路( IC )制造工藝中的用化學(xué)品,用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。對這種高純試劑中可溶性雜質(zhì)和固態(tài)微粒要求非常嚴(yán)格,為適應(yīng) IC 集成度不斷提高的需求,上半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會( Semiconductor Industry Association )近來推出 Semic7( 適合 0.8-1.2 微米工藝技術(shù) ) 和 Semic8( 適合于 0.2-0.6 微米工藝技術(shù) )朱砂蓮甲素,518-82-1 別的試劑質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。我國在原有 MOS 、 BV-I 試劑的基礎(chǔ)上,又制定出 BV-II 和 BV-III 試劑標(biāo)準(zhǔn)(相當(dāng)于 Semic7 )。我研究所也研制多種 MOS 、 BV-I  BV-II 和部分 BV-III 試劑,其顆粒度( 0.5 微粒顆粒)≤ 25-100 個∕ ml ,金屬雜質(zhì)總量≤ 10 -3 — 10 - 5 ﹪

? 光刻膠高純試劑

光刻工藝是一種表面加工技術(shù),在半導(dǎo)體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實現(xiàn)選擇性腐蝕,采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層,稱為抗蝕劑,國內(nèi)通稱光刻膠。按照溶解度的不同而將光刻膠分為“正性”光刻膠和“負(fù)性”光刻膠,按所用曝光光源和輻射光源的不同,朱砂蓮甲素,518-82-1又可將其分為紫外、遠紫外、電子束、 X 射線等光刻膠。

光刻膠是微細(xì)圖形加工的一種關(guān)鍵試劑,要求水分低、金屬雜質(zhì)含量低(≤ 10 -6 )

? 磨拋光高純試劑

是指用于硅單晶片表面的研磨和拋光的高純度試劑。它又分磨粉(三氧化二鋁)和磨液(水和油劑),能研磨表面達到微米加工精度。這類試劑要求顆粒粒度小(納米),純度高,金屬雜質(zhì)一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

? 液晶高純試劑

液晶是一類電子化學(xué)材料,是指在一定溫度范圍內(nèi)呈現(xiàn)介于固相和液相之間的中間相的有機物。它既有液態(tài)的流動性也有晶態(tài)的各向異性,有時人稱他為第四態(tài)。

液晶種類繁多,朱砂蓮甲素,518-82-1用途廣,景*的要屬 TN( 低檔 ) 、 STN (中高檔)、 TFT (高檔)型。 TN 、 STN 及 TFT 三種型號所組成的單體液晶,主要包括芳香酯類、聯(lián)苯類、苯基環(huán)已烷類、鐵電類以及含氟液晶品等五種,它們是當(dāng)及后使用及發(fā)展的主要對象。這類高純試劑要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金屬雜質(zhì)含量少(≤ 10 -6 )。