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產(chǎn)品展示

成都全譜直讀光譜儀W5型

點(diǎn)擊次數(shù):0發(fā)布時(shí)間:2019/6/18 16:01:37

成都全譜直讀光譜儀W5型

更新日期:2022/5/16 16:49:42

所 在 地:中國(guó)大陸

產(chǎn)品型號(hào):

簡(jiǎn)單介紹:W5型全譜直讀光譜儀擁,可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測(cè)器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素,它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)積累,針對(duì)不同材料、不同要求,設(shè)計(jì)了這款全新的、更具性價(jià)比的全譜直讀光譜儀,可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開(kāi)發(fā)的應(yīng)用。

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

詳細(xì)內(nèi)容

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

儀器介紹


    W5型全譜直讀光譜儀,可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測(cè)器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素,它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)積累,針對(duì)不同材料、不同要求,設(shè)計(jì)了這款全新的、更具性價(jià)比的全譜直讀光譜儀,可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開(kāi)發(fā)的應(yīng)用。
 

產(chǎn)品特點(diǎn)

 
l  性能優(yōu)越的光學(xué)系統(tǒng)
²  帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵,全譜覆蓋,滿足客戶對(duì)全元素檢測(cè)的需求。
²  直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件,保證紫外區(qū)域的高性能。
²  高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng),更低的暗電流,更好的檢出限,更高的穩(wěn)定性,更強(qiáng)的靈敏度,滿足N的分析要求。
 
l  智能數(shù)字激發(fā)光源
 
²  全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù),帶來(lái)優(yōu)越分析性能。
²  緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù),使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的可靠性。
²  高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整,充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。
 
l  激發(fā)臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)
²  開(kāi)放式樣品臺(tái),滿足大樣品測(cè)試要求。
²  變換電極可對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
²  視頻識(shí)別技術(shù),確保樣品臺(tái)激發(fā)安全,可監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)的全景。
 
l  智能集成氣路模塊
²  智能氬氣流設(shè)計(jì)及粉塵收集清理裝置
²  獨(dú)特的氬氣噴射技術(shù),有效消除激發(fā)過(guò)程中等離子體的飄移,確保CCD檢測(cè)器能夠觀測(cè)高溫區(qū)域光信號(hào),提高精度和穩(wěn)定性。
²  激發(fā)后,脈沖式氬氣吹掃,提高粉塵去除效果,提升儀器的短期和長(zhǎng)期穩(wěn)定性。


l  智能真空測(cè)量和控制
²  真空系統(tǒng)完全程控,在保證真空度的同時(shí)減少真空泵的運(yùn)行時(shí)間,
²  雙級(jí)設(shè)置,在儀器不運(yùn)行的情況下,開(kāi)啟待機(jī)真空運(yùn)行狀態(tài)。
²  多級(jí)真空隔離措施及增加濾油裝置,保障光學(xué)元器件在可靠的環(huán)境中工作。
 
l  透鏡清理裝置
²  不銹鋼真空球閥,在清理透鏡時(shí)有良好的隔離效果。
²  單板式透鏡設(shè)計(jì),拆裝方便。
²  交叉機(jī)械裝置,在未解除隔離的情況有效保護(hù)光學(xué)系統(tǒng)。
 

應(yīng)用領(lǐng)域



技術(shù)參數(shù):



項(xiàng)目 指標(biāo)
檢測(cè)基體 鐵基、銅基、鋁基等3個(gè)基體
光學(xué)系統(tǒng) 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍 165~580nm(可安裝上下限檢測(cè)器擴(kuò)大波長(zhǎng)范圍)
光柵焦距 400mm
探 測(cè) 器 高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型 DDD數(shù)字激發(fā)光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS)
放電頻率 100-1000Hz
放電電流 不高于 400A
檢測(cè)時(shí)間 依據(jù)樣品類型而定,一般在25s左右
電極類型 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺(tái)分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng) 真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)
光室恒溫 34℃,溫度自動(dòng)監(jiān)測(cè)
氬氣純度 99.999%
氬氣壓力 0.5MPa
工作電源 AC220V 50/60Hz 
儀器尺寸 860*680*438mm
儀器重量 約100kg
 
 

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