高純電子化學(xué)品研究過程中需要使用大量工藝水、洗滌水、循環(huán)水，水質(zhì)對產(chǎn)品質(zhì)量的影響不容忽視。由于高純電子化學(xué)品對雜質(zhì)要求為嚴(yán)格，所使用的超純水須絕對達(dá)到國標(biāo)水標(biāo)準(zhǔn)，即無離子、無可溶性有機(jī)物、無菌、微粒達(dá)標(biāo)、電阻率達(dá)到18. 2MΩcm。我國于1997年制定了電子行業(yè)用超純水國家標(biāo)準(zhǔn)GB / T11446. 121997，分為兩，水相當(dāng)于美國半導(dǎo)體行業(yè)Ⅱ純水標(biāo)準(zhǔn)。

如果試驗(yàn)過程中誤操作引入不潔凈的水，如洗滌不干凈，或由于循環(huán)水因微小焊縫滲漏，致使產(chǎn)品 Ca、M g、K、N a等離子大大升高，試驗(yàn)結(jié)果和有效性將大打折扣。與此同時，在清洗試驗(yàn)設(shè)備 器皿時也要有套嚴(yán)格的清洗制度，潔凈用具需上機(jī)檢測潔凈度，盡可能避免引入雜質(zhì)和雜質(zhì)富集而影響終產(chǎn)品質(zhì)量，因此研發(fā)過程中必須十分重視超純水質(zhì)的問題，配備超純水設(shè)備。