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聯(lián)系人：郁水峰
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技術(shù)文章
真空鍍膜二硫化鉬Mos2納米涂層
點擊次數(shù)：148 發(fā)布時間：2022/7/25 18:03:32
性能優(yōu)勢
· Coating deposition carried out using a high density of low energy bombarding ions.
使用高密度低能量轟擊離子進行沉積鍍膜。
· Deposition of very dense, non-columnar coating structures with low internal stresses.
鍍層致密度好，低柱狀晶結(jié)構(gòu)，內(nèi)應(yīng)力低
· Deposition of coatings with dense structures at low temperatures.
• 可在低溫環(huán)境下沉積致密結(jié)構(gòu)的鍍層
· High efficiency of ion cleaning resulting in coatings with the highest levels of adhesion.
高效率等離子清理以提供高的鍍層結(jié)合強度。
· Coatings quality is assured by the use of specially designed Plasmag sputter sources, which create an intense plasma ａnd high ion bombardment of work pieces.
鍍層品質(zhì)保證是由使用門設(shè)計plasmag濺射源及提供高密度的等離子。
原創(chuàng)作者：平湖比爾安達新材料科技有限公司
