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產(chǎn)品展示

SEM測(cè)試_SEM檢測(cè)_掃描電鏡測(cè)試服務(wù)

點(diǎn)擊次數(shù):14發(fā)布時(shí)間:2017/10/19 10:38:59

SEM測(cè)試_SEM檢測(cè)_掃描電鏡測(cè)試服務(wù)

更新日期:2017/10/19 10:38:59

所 在 地:歐洲

產(chǎn)品型號(hào):

簡(jiǎn)單介紹:測(cè)試:XPS SEM ICP GPC XRD TEM BET TPD 壓汞 吡啶紅外(py-ir)XRF TG-DSC GCMS PL 紫外 紅外 元素分析儀 拉曼

相關(guān)標(biāo)簽:SEM測(cè)試_SEM檢測(cè)_掃描電鏡 

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

詳細(xì)內(nèi)容

 原理

高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線(xiàn)和連續(xù)譜X

射線(xiàn)、背散射電子、透射電子,以及在可見(jiàn)、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射.

儀器技術(shù)參數(shù)

分辨率: 30 kV,3.0 nm(高真空模式), 背散射電子分辨率30 kV,4.0 nm(高真空模式). 放大倍率: ×5

- ×300,000. 加速電壓0.3 - 30 Kv.

送樣要求

粉狀樣品1-5g之間,能把3-5mm直接樣品填滿(mǎn)即可。塊狀樣品不能大于5mm寬,高度小于5mm.

應(yīng)用領(lǐng)域

材料,粉體,礦物粒徑大小,表面斷面形貌分析填料分散狀態(tài)復(fù)合材料結(jié)構(gòu)材料晶型分析晶粒大

,材料物相分析。元素定性分析。

適用標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 16594-2008微米級(jí)長(zhǎng)度的掃描電鏡測(cè)量方法通則

GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線(xiàn)能譜分析方法

原理

高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線(xiàn)和連續(xù)譜X

射線(xiàn)、背散射電子、透射電子,以及在可見(jiàn)、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射.

儀器技術(shù)參數(shù)

分辨率: 30 kV,3.0 nm(高真空模式), 背散射電子分辨率30 kV,4.0 nm(高真空模式). 放大倍率: ×5

- ×300,000. 加速電壓0.3 - 30 Kv.

送樣要求

粉狀樣品1-5g之間,能把3-5mm直接樣品填滿(mǎn)即可。塊狀樣品不能大于5mm寬,高度小于5mm.

應(yīng)用領(lǐng)域

材料,粉體,礦物粒徑大小,表面斷面形貌分析填料分散狀態(tài)復(fù)合材料結(jié)構(gòu)材料晶型分析晶粒大

,材料物相分析。元素定性分析。

適用標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 16594-2008微米級(jí)長(zhǎng)度的掃描電鏡測(cè)量方法通則

GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線(xiàn)能譜分析方法

原理

高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線(xiàn)和連續(xù)譜X

射線(xiàn)、背散射電子、透射電子,以及在可見(jiàn)、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射.

儀器技術(shù)參數(shù)

分辨率: 30 kV3.0 nm(高真空模式), 背散射電子分辨率30 kV,4.0 nm(高真空模式). 放大倍率: ×5

- ×300,000. 加速電壓0.3 - 30 Kv.

送樣要求

粉狀樣品1-5g之間,能把3-5mm直接樣品填滿(mǎn)即可。塊狀樣品不能大于5mm寬,高度小于5mm.

應(yīng)用領(lǐng)域

材料,粉體,礦物粒徑大小,表面斷面形貌分析填料分散狀態(tài)復(fù)合材料結(jié)構(gòu)材料晶型分析晶粒大

,材料物相分析。元素定性分析。

適用標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 16594-2008微米級(jí)長(zhǎng)度的掃描電鏡測(cè)量方法通則

GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線(xiàn)能譜分析方法

原理

高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí),被激發(fā)的區(qū)域?qū)a(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線(xiàn)和連續(xù)譜X

射線(xiàn)、背散射電子、透射電子,以及在可見(jiàn)、紫外、紅外光區(qū)域產(chǎn)生的電磁輻射.

儀器技術(shù)參數(shù)

分辨率: 30 kV,3.0 nm(高真空模式), 背散射電子分辨率30 kV,4.0 nm(高真空模式). 放大倍率: ×5

- ×300,000. 加速電壓0.3 - 30 Kv.

送樣要求

粉狀樣品1-5g之間,能把3-5mm直接樣品填滿(mǎn)即可。塊狀樣品不能大于5mm寬,高度小于5mm.

應(yīng)用領(lǐng)域

材料,粉體,礦物粒徑大小,表面斷面形貌分析填料分散狀態(tài)復(fù)合材料結(jié)構(gòu)材料晶型分析晶粒大

,材料物相分析。元素定性分析。

適用標(biāo)準(zhǔn)

GB/T 16594-2008微米級(jí)長(zhǎng)度的掃描電鏡測(cè)量方法通則

GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線(xiàn)能譜分析方法

 專(zhuān)業(yè)、高效、精準(zhǔn)、高性?xún)r(jià)比是廣州化聯(lián)質(zhì)量檢測(cè)技術(shù)有限公司的服務(wù)宗旨。

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