產(chǎn)品展示
湖南長(zhǎng)沙LW400LMDT正置(明暗場(chǎng))芯片檢查顯微鏡
點(diǎn)擊次數(shù):126發(fā)布時(shí)間:2010/12/21 15:49:53
更新日期:2012/1/16 15:30:31
所 在 地:
產(chǎn)品型號(hào):LW400LMDT
優(yōu)質(zhì)供應(yīng)
詳細(xì)內(nèi)容
本儀器廣泛的應(yīng)用于透明,半透明或不透明物質(zhì),比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結(jié)構(gòu)、痕跡,都能有很好的成像效果。
二、技術(shù)指標(biāo)
- 鏡筒:T三目,30°傾斜
- 高眼點(diǎn)目鏡:WF10X/Φ25mm
- 無(wú)限遠(yuǎn)長(zhǎng)工作距離物鏡:4X、10X、20X、40X
- 轉(zhuǎn)換器:五孔
- 工作臺(tái)尺寸:310mm×350mm
- 調(diào)焦:粗微動(dòng)同軸,范圍36mm,微動(dòng)0.002mm
- 光源:垂直照明,鹵素?zé)?2V100W,亮度可調(diào)
- DIC裝置:偏光裝置、明暗場(chǎng)轉(zhuǎn)換