美國(guó)禾威WCU銅控制器和WNI鎳控制器是應(yīng)用光電原理在線分析測(cè)理溶液中銅/鎳的真實(shí)濃度，廣泛應(yīng)用于化學(xué)鍍缸和蝕刻鍍缸(包括氧化置換類(lèi)型)。
WCU410，可通過(guò)菜單來(lái)切換沉銅或蝕銅模式免除增加控制器，通過(guò)減少鍍缸變換頻率來(lái)減少人工滴定的需要并改進(jìn)生產(chǎn)和增加生產(chǎn)力。
WNI410可只測(cè)量鎳或附帶pH控制功能從而省去另添pH控制器的需要。兩個(gè)獨(dú)立泵輸出用于鎳控制及一個(gè)用pH，每個(gè)都可統(tǒng)計(jì)泵的總運(yùn)用時(shí)間、總添加量或“金屬消耗”。
完整的數(shù)據(jù)資料記錄可充分證實(shí)系統(tǒng)的性能，一個(gè)USB記憶棒可輸出數(shù)據(jù)和事件日志，包括銅/鎳度量和繼電器狀態(tài)。下載USB記憶棒內(nèi)數(shù)據(jù)至PC將變的非常簡(jiǎn)便容易。