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產(chǎn)品展示

磁控濺射鍍膜設(shè)備

點(diǎn)擊次數(shù):5發(fā)布時(shí)間:2017/6/15 15:15:12

磁控濺射鍍膜設(shè)備

更新日期:2017/6/15 15:15:12

所 在 地:中國大陸

產(chǎn)品型號(hào):

簡單介紹:從事真空設(shè)備、表面處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)服務(wù);真空設(shè)備、表面處理設(shè)備、機(jī)械設(shè)備及配件的生產(chǎn)、加工(除特種)及銷售;從事貨物及技術(shù)的進(jìn)出口業(yè)務(wù)。

優(yōu)質(zhì)供應(yīng)

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真空磁控濺射鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩、手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常用氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象。早在1842年Grove在實(shí)驗(yàn)室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和對(duì)數(shù)電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下,加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞。若電子具有足夠的能量(約為30ev)時(shí),則電離出Ar+并產(chǎn)生電子,電子飛向基片,Ar+在電場作用下,加速飛向陰極(濺射靶)并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。 

本公司的磁控濺射鍍膜設(shè)備有以下幾大特點(diǎn):

1)膜厚可控性和重復(fù)性好。能夠可靠的鍍制預(yù)定厚度的薄膜,并且,濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層;

2)薄膜與基片的附著力強(qiáng)。部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象,在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴(kuò)散層;

3)制備特殊材料的薄膜,可以使用不同的材料同時(shí)濺射制備混合膜、化合膜,還可濺射成TiN仿金膜;

4)膜層純度高,濺射膜層中不會(huì)混入坩鍋加熱器材料的成份。


上海沃家真空設(shè)備科技有限公司

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